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日本EUV專(zhuān)家Shinji Okazaki博士應邀在上海光機所 “清河之光”論壇作學(xué)術(shù)報告

來(lái)源： 發(fā)布時(shí)間：2013-12-20【字體：大 中 小】

    12月17日下午，上海光機所第五期“清河之光”論壇在多功能廳舉辦。本次活動(dòng)邀請到日本Gigaphoton公司的EUV開(kāi)發(fā)部部長(cháng)顧問(wèn)Shinji Okazaki博士來(lái)所作學(xué)術(shù)報告。全所近200名職工和研究生聽(tīng)取了報告。講座開(kāi)始前，Shinji Okazaki博士被聘為上海光機所名譽(yù)教授，所黨委書(shū)記邵建達研究員為其頒發(fā)了名譽(yù)教授證書(shū)。 

　　在本次論壇上，Shinji Okazaki博士作了題為“History, Current Status and Future Prospects of Lithography”的學(xué)術(shù)報告。報告主要介紹了光刻技術(shù)的發(fā)展歷史、現存問(wèn)題和相應的解決方案，并對下一代光刻技術(shù)進(jìn)行了深入的探討。報告指出193nm浸沒(méi)式光刻技術(shù)與多圖形技術(shù)相結合是當今的主流光刻技術(shù)。作為下一代的光刻技術(shù)，EUV光刻面臨光源、掩模、光刻膠等方面的問(wèn)題，電子束光刻、納米壓印和自組裝技術(shù)也是很有競爭力的下一代的光刻技術(shù)。報告后，與會(huì )人員就EUV光刻技術(shù)的研究進(jìn)展與前景等問(wèn)題與Shinji Okazaki博士進(jìn)行了深入的交流。會(huì )后，Shinji Okazaki博士分別參觀(guān)了上海光機所強場(chǎng)激光物理國家重點(diǎn)實(shí)驗室、信息光學(xué)與光電技術(shù)實(shí)驗室以及高功率激光物理聯(lián)合實(shí)驗室。 

　　Shinji Okazaki博士1970年畢業(yè)于東京工業(yè)大學(xué)理學(xué)部電子工學(xué)科，之后進(jìn)入日立中央研究所工作。1980年赴美國倫斯勒理工學(xué)院（Rensselaer Polytechnic Institute)訪(fǎng)學(xué)一年。1994年獲得東京工業(yè)大學(xué)工學(xué)博士學(xué)位。1995年進(jìn)入日立半導體事業(yè)部，1998年轉入日立設備開(kāi)發(fā)中心，同年返回日立中央研究所，并調職至日本超先進(jìn)電子技術(shù)聯(lián)盟ASET（Association of Super-Advanced Electronics Technologies），擔任EUV研究室室長(cháng)，從事EUV光刻技術(shù)的研究。2002年就任ASET的EUV工藝技術(shù)研究部部長(cháng)，2006年返回日立中央研究所。2008年從日立離職，進(jìn)入Gigaphoton公司工作，并調職至日本極紫外光刻系統開(kāi)發(fā)協(xié)會(huì )EUVA（Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association），現為Gigaphoton公司EUV開(kāi)發(fā)部部長(cháng)顧問(wèn)。Shinji Okazaki博士為IEEE Fellow，SPIE Fellow，日本應用物理學(xué)會(huì )Fellow。（所辦公室、信息光學(xué)與光電技術(shù)實(shí)驗室供稿）  

 

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