1970年畢業(yè)于東京工業(yè)大學(xué)理學(xué)部電子工學(xué)科,之后進(jìn)入日立中央研究所工作。1980年在美國倫斯勒理工學(xué)院(Rensselaer Polytechnic Institute)留學(xué)一年。1994年獲得東京工業(yè)大學(xué)工學(xué)博士學(xué)位。1995年進(jìn)入日立半導體事業(yè)部,1998年轉入日立設備開(kāi)發(fā)中心工作,同年返回日立中央研究所,并調職至日本超先進(jìn)電子技術(shù)聯(lián)盟ASET(Association of Super-Advanced Electronics Technologies),擔任EUV研究室室長(cháng),從事EUV光刻技術(shù)的研究。2002年就任ASET的EUV工藝技術(shù)研究部部長(cháng),2006年返回日立中央研究所。2008年從日立離職,進(jìn)入Gigaphoton公司工作,調職至日本極紫外光刻系統開(kāi)發(fā)協(xié)會(huì )EUVA(Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association)。現為Gigaphoton公司EUV開(kāi)發(fā)部部長(cháng)顧問(wèn),IEEE Fellow,SPIE Fellow,日本應用物理學(xué)會(huì )Fellow。 |